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带图评论：两边的保护范围，我全都要——出自《九品芝麻官》
宁德时代与中创新航的专利战，虽然还有几件案子的结果未出，但剧情似乎进入了下一个阶段。中创新航反诉宁德时代滥用专利权恶意维权，以及肆意诋毁的不正当竞争。
这个就有意思了，之前双方更多的是在媒体上的“口水战”，这次直接起诉了。
所谓滥用专利权其实是新专利法第二十条，新引入的内容，不过由于配套的实施细则尚未出台，所以还不能明确专利法含义中的“滥用”到底是啥。
通常理解的“滥用专利权”包括，你明知技术方案不应当受到专利保护，故意采取不当手段取得专利权，以打压竞争对手获利，阻止他人的正常实施。 
早前，一篇有关人大代表针对锂电行业的建议中，似乎体现出中创新航的观点。
“通过数据杜撰和利用若干参数编造复杂公式的撰写方式申请专利，将市场上已经广泛运用的现有技术纳入到专利保护范围之内获得授权（例如现有技术已公开的电芯正/负极膜片专利）” 
因为恰好，宁德时代诉中创新航的专利，就有涉及正极极片的参数专利CN108878892B。 
这件涉诉专利的关键点在于正极膜片的OI值，其实是XRD两个衍射峰峰面积的比值。
其核心发明点在于，这OI值要小于等于150，才会有长的循环寿命，性能才好。
一旦OI值大于150，达到160，则循环圈数就会从原来的4000+圈，暴跌至1000圈左右。
似乎正极材料的OI值，在150-160之间有一道“裂缝”，超过150就必须挂掉... 
但是意想不到是，在涉诉专利申请的当日，宁德时代还提交了另一份专利申请CN108808072A。
而在这份专利申请中，宁德时代同样要保护正极膜片的OI值，只不过这回保护的OI值范围是5-200。 
于是，正极材料同样是NCM材料，但是OI值等于150的那条裂缝似乎消失了！
正极膜片OI值即使超过150，甚至到了210，循环圈数的数值也在并不算很差的2000+圈。 
一篇专利说，正极膜片的OI值不能大于150，大于150性能会挂；
另一篇专利申请说，正极膜片的OI值大于150也可以，大于150性能也挺好。
正的、反的我都要！里里外外宁德时代都想保护下来就对了，于是同日申请，然后看哪个能授权了。
就像有些自媒体，同样的事情，正面观点写一篇文，反面观点写一篇文，针对不同的受众，反正两面流量都赚到了...
结合两篇专利一看，这大概是涉诉专利疑似的一个漏洞，那么涉诉专利的有益效果是否真实存在？
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（“所提交专利申请存在编造、伪造或变造发明创造内容、实验数据或技术效果，或者抄袭、简单替换、拼凑现有技术或现有设计等类似情况”）
不知道中创新航那边发现了没有，更严谨的话，可以再对应一下具体的材料啥的。
显然，如果专利审查员不同时审查这两件专利的话，很难发现两篇专利申请之间的数据矛盾。
最后，涉诉的正极片专利，OI值要小于等于150的，不但授权了，还拿去告了中创新航；
另一件OI值可以大于150的，被审查员以新创性下了OA，然后就视为撤回了。
虽然没授权，但宁德时代自己公开的实施例就在那里，无法修改... 
除此之外，宁德时代负极极片的涉诉专利CN110010851B，也是抓住了负极极片的OI值特征。
实施例的参数大概是这样的（如上图）：负极极片的OI值大概还是有零有整的。
还是在与其同日申请的另一份专利CN108807959B中，也是涉及负极极片OI值，可是他的OI值数据是这样的： 
讲真，大量数据的雷同让人不禁有了疑问，到底哪件才是真实做了实验的？有实验数据支撑的？
按照我的理解，XRD数据是体现材料微观层面的“指纹信息”，不同样品的XRD数据肯定是有差异的。
如何能在石墨化度不同的情况下，还保证OI值维持惊人的统一，这恐怕不由得会引起他人的好奇了...
毕竟宁德时代自己也没有公开XRD的图谱，很难想象那么多25的图谱，都各是什么样子。
总之，这回中创新航之所以敢反诉宁德时代，应该是抓到了宁德时代滥用专利权的实质证据了。
如果真如上面分析，涉诉专利存在瑕疵，那么在专利无效的战场上，似乎也是中创新航有力的武器。
2022年12月30日 于上海
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